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設備簡介：桌上型旋轉涂布機，用于對均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應用于12寸以內...

MSD-150D主要應用于曝光后的顯影工藝。該設備主要由顯影腔單元、自動擺臂單元、 以及供液系統、主軸系統、控制系統及排液系統等組成，整機采用框架結構，外表為鏡...

該設備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影、烘烤工藝；設備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV、熱 盤 HP 等（各腔體間有擋板隔開）等，按需設計，多...

MSC-200T-D桌上型半自動旋轉涂布機用于對均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、...

應用：在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。應用：在...

桌上型旋轉涂布機將溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領域。主要應用于4、6寸樣品。該款可為客戶提...

MAS4-BE光刻系統一體機主要由勻膠單元、烤膠單元、曝光單元、顯影單元等部分組成，該設備針對高校研究所實驗室，特點是占地面積小，性價價比更高。整機采用框架結構...